本周，欣奕华先进材料事业群在北京、阜阳两地同步召开了以“尊重技术，坚持创新”为主题的科技创新大会，共有10名专家、80多名科研人员与会。在此次创新大会主要围绕先进材料事业群在光刻胶领域方面（显示光刻胶的开发、IC光刻胶技术、OLED材料）以及医药材料等领域的领先技术进行了专家分享。
会上，欣奕华集团董事长王彦军对先进材料事业群在面对前所未有的复杂环境下，持续坚持材料技术国产化，聚焦泛半导体领域，刻苦攻关，保证显示光刻胶产品出货量继续稳居国内榜首；OLED材料在大尺寸验证通过，自主结构设计方面也申报了大量专利，布局了具有战略意义的半导体光刻胶；低温光刻胶、高折射Ink、PDL材料等新方向也在积极规划孵化中；制药业务，产品生产工艺技术稳步提升，CMO业务有序推进等科研成绩表示了肯定与鼓励。
大会特别对科研项目和专利贡献突出的科研人员（共计13名）进行了奖励，鼓励这些科技工作者在今后的工作中继续创造新佳绩。
此次创新大会圆满成功举行，不仅展示了欣奕华在新材料领域上9年来的成果，也让员工们了解到科研是无止境的，必须始终尊重技术，坚持创新，稳步发展，希望广大研发人员立足攻关项目，争做创新尖兵，勇闯技术“无人区”，着力解决各类“卡脖子”瓶颈技术难题，为公司的技术跨越发展奉献智慧和力量！
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